Le docteur-ing\u00e9nieur Jakub Sitek du D\u00e9partement de Physique de la Polytechnique de Varsovie (PW), et un groupe international de chercheurs ont mis au point une nouvelle m\u00e9thode qui ouvre la voie \u00e0 la production de masse de dispositifs bas\u00e9s sur des mat\u00e9riaux 2D. Les r\u00e9sultats des travaux de l’\u00e9quipe ont \u00e9t\u00e9 publi\u00e9s dans la revue ACS Applied Materials & Interfaces, rapporte la PW.<\/b><\/p>\n
Notre \u00e9quipe a mis au point une m\u00e9thode de production s\u00e9lective d’h\u00e9t\u00e9rostructures de van der Waals par d\u00e9p\u00f4t chimique en phase vapeur en utilisant l’irradiation par faisceau d’\u00e9lectrons\u00a0\u00bb, explique le docteur-ing\u00e9nieur Jakub Sitek, qui pr\u00e9cise que le processus consiste \u00e0 exposer un substrat, tel que le graph\u00e8ne, \u00e0 un faisceau d’\u00e9lectrons tr\u00e8s puissant.\u00a0<\/span><\/p>\n Les \u00e9lectrons modifient le substrat tout en le saturant d’une charge \u00e9lectrique. Nous faisons ensuite cro\u00eetre une autre couche de mat\u00e9riaux 2D, par exemple des semi-conducteurs tels que le sulfure de tungst\u00e8ne WS2, sur ce substrat expos\u00e9, ajoute-t-il.<\/span><\/p>\n